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pmma950电子束光刻胶PMMA 950 C4

发布时间:2023-11-22        浏览次数:4        返回列表
前言:电子束光刻胶,PMMA 950 C9,PMMA 950 C4
pmma950电子束光刻胶PMMA 950 C4
1.紫外光刻胶(Photoresist)


各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。

各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。

各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。


2. 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist)


电子束正胶:PMMA胶,PMMA/MA聚合物, LIGA用胶等。

电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。


3. 特殊工艺用光刻胶(Special manufacture/experimental sample)


电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶


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