前言：ZEP520A电子束,电子束光刻胶,德国MicroResis,负性光刻胶 N2400
： 电子束光刻胶
| 类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 | 可用显影液 | 可用去胶液 |
| 电子束光刻胶 | SU-8 1010 | EB | 0.1-0.2 | 0.5um | 负性环氧类化学放大光刻胶 | PGMEA | NMP |
| ZEP520 | 0.05-1 | 10-50nm | 高分辨率电子束正胶,抗刻蚀 | ||||
| PMMA(国产) | 待定 | ||||||
| EBL 6000系列 | 0.1-0.5 | 50nm | 负性电子束光刻胶 | mr-Dev 600(solvent based) | |||
| ma-N2400系列 | 0.1-1.5 | 30nm | 负性电子束光刻胶 | ma-D 525 (TMAH based)ma-D 332/ ma-D 331 (NaOH based) | |||