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光刻胶 SU-8 2000 系列负性光刻胶

发布时间:2023-11-22        浏览次数:14        返回列表
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光刻胶 SU-8 2000 系列负性光刻胶

microchem光刻胶 SU-8 2000 性环氧负性光刻胶microchem 光刻胶SU-8 2000系列性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075,SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度,更极性的溶剂体系,可改善涂层质量,提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到>200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。暴露的和随后的热交联部分的薄膜是不溶性的液体显影液

Microchem( KAYAKU )

产品名称

SU8光刻胶

产品规格

100ml/250ml/500ml/1L

用途范围

用于加工浇筑PDMS微流控芯片用的光刻胶模具

是否进口

加工定制

包装规格

1kg

光刻胶型号1

SU8 3005

光刻胶型号2

SU-8 3010

光刻胶型号3

SU8 3025

光刻胶型号4

SU8 3035

光刻胶型号5

SU8 3050

光刻胶型号6

SU8 2015

单层匀胶厚度

0.5~200um

感光波长

350~400nm

推荐光刻机型号

Cchip-0019型光刻机

可售卖地

全国

类型

环氧树脂光刻胶

型号

SU-8 2000.5/2002/2005/2010/2015


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